爱游戏-仅次于光刻！我国突破氢离子注入核心技术 100％国产

[导读]9月11日动静，据国度电力投资团体官方动静，近日，团体所属国电投核力创芯(无锡)科技有限公司核力创芯暨国度原子能机构核手艺(功率芯片质子辐照)研发中间，完成了首批氢离子注入机能优化芯片产物客户交付。 9月11日动静，据国度电力投资团体官方动静，近日，团体所属国电江南体育投核力创芯(无锡)科技有限公司核力创芯暨国度原子能机构核手艺(功率芯片质子辐照)研发中间，完成了首批氢离子注入机能优化芯片产物客户交付。 这标记着，我国已周全把握功率半导体高能氢离子注入焦点手艺和工艺，补全了我国半导体财产链中缺掉的主要一环，为半导体离子注入装备和工艺的周全国产替换奠基了根本。 工程师进行晶圆离子注入出产 氢离子注入是半导体晶圆制造中仅次在光刻的主要环节，在集成电路、功率半导体、第三代半导体等多种类型半导体产物制造进程中起着要害感化。 这一范畴焦点手艺、设备工艺的缺掉，严重制约了我国半导体财产的高端化成长，特殊是600V以上高压功率芯片持久依靠进口。 核力创芯在遭受外国要害手艺、设备封闭的晦气前提下，在不到3年的时候里，冲破了多项要害手艺壁垒，实现了100%自立手艺、100%设备国产化，建成了我国首个核手艺利用和半导体范畴交叉学科研发平台。 首批交付的芯片产物履历了累计近1万小时的工艺、靠得住性测实验证，首要手艺指标到达国际进步前辈程度，取得用户高度评价。

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